当ASML的个硅国造光刻EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的原宽时候，美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破，度美Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米，机都也就是个硅国造光刻0.7nm的芯片，这种芯片可用于量子计算机。原宽

Zyvex推出的度美光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，机都使用的个硅国造光刻是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的原宽芯片，冷门游戏辅助这个精度是度美远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的机都宽度，是个硅国造光刻当前制造精度最高的光刻系统。

这个光刻机制造出来的原宽芯片主要是用于量子计算机，可以制造出高精度的度美固态量子器件，以及纳米器件及材料，对量子计算机来说精度非常重要。

ZyvexLitho1不仅是精度最高的绝地求生辅助电子束光刻机，而且还是可以商用的，Zyvex公司已经可以接受其他人的订单，机器可以在6个月内出货。

EBL电子束光刻机的精度可以轻松超过EUV光刻机，然而这种技术的缺点也很明显，那就是产量很低，无法大规模制造芯片，只适合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它们取代EUV光刻机也不现实。绝地求生黑号